Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“. Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas. 2000.
épitaxie à pression réduite — mažaslėgė epitaksija statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reduced pressure epitaxy vok. Epitaxie bei reduziertem Druck, f rus. эпитаксия при пониженном давлении, f pranc. épitaxie à pression réduite, f … Radioelektronikos terminų žodynas
mažaslėgė epitaksija — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reduced pressure epitaxy vok. Epitaxie bei reduziertem Druck, f rus. эпитаксия при пониженном давлении, f pranc. épitaxie à pression réduite, f … Radioelektronikos terminų žodynas
reduced-pressure epitaxy — mažaslėgė epitaksija statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reduced pressure epitaxy vok. Epitaxie bei reduziertem Druck, f rus. эпитаксия при пониженном давлении, f pranc. épitaxie à pression réduite, f … Radioelektronikos terminų žodynas
эпитаксия при пониженном давлении — mažaslėgė epitaksija statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reduced pressure epitaxy vok. Epitaxie bei reduziertem Druck, f rus. эпитаксия при пониженном давлении, f pranc. épitaxie à pression réduite, f … Radioelektronikos terminų žodynas
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemische Gasphasenabscheidung — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapour deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und… … Deutsch Wikipedia
